ITO薄膜的制备及优化设计.pdf

/
学位论文作者:葛亚痰学位论文作者::≥。年多月弓‘、.学位论文使用授权声明原创性声明:月本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下,独立进行研究所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的科研成果。对本文的研究作出重要贡献的个人和集体,均已在文中以明确方式标明。本声明的法律责任由本人承担。本人在导师指导下完成的论文及相关的职务作品,知识产权归属郑州大学。根据郑州大学有关保留、使用学位论文的规定,同意学校保留或向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阅;本人授权郑州大学可以将本学位论文的全部或部分编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或者其他复制手段保存论文和汇编本学位论文。本人离校后发表、使用学位论文或与该学位论文直接相关的学术论文或成果时,第一署名单位仍然为郑州大学。保密论文在解密后应遵守此规定。、~~·’
摘要用烁弑曜嫉墓獾缧阅芤G螅設骷鸸丶饔玫拇植诙从而增大了表面粗糙度。因此,尽可能的降低功率可制备出高性能、低粗糙度透明导电薄膜魑R恢侄捞氐墓獾绻δ懿牧希婢吡私细叩目杉透过性和良好的导电性能,受到人们的青睐。由于其优异的光电特性,使其在太阳能电池、气体传感器、液晶显示等领域得到了广泛应用。随着相关领域在光电转换、发光亮度等方面进一步的深入研究和丌发,对系统组成部分提出了更加苛刻的要求。例如,∧げ阕魑P乱淮允酒骷﨩射出面并担负透明阳极材料,其性能优劣直接关系到器件的性能。而方面更需要严格控制。围绕制备这种高要求的∧ぃ疚募苹治A酱蟛酵瓿烧飧瞿勘辏阂弧对影响∧さ募父鲋匾9ひ詹问貉蹼脖取⒔ι溲骨俊⑽露取⒐β式刑讨优化,找到制备淖钣胖票柑跫6⒃谧钣盘跫拢褂酶檬笛槭易主研发的能量过滤磁控溅射际踅薪徊降难蟹⒅票浮1韭畚闹要结论如下:对氧氩比、溅射压强、温度、功率几个工艺参数进行了探讨优化,找出了制备符合要求的该鞯嫉绫∧さ淖钣挪问洹7直鹞#在流量保持的情况下,控制流量在左右时,透过率可达%以上并可保证较低的电阻率,此时制备出的∧び薪锨康难苌浞濉对于溅射压强,取.,可制备出有高透过率、低电阻的∧ぁN露选定范围为℃.妫笛楸砻℃条件下制备的∧す獾缧阅茏钗优越。并且碚鳎℃条件下制备的∧は税伎拥染Ы缛毕荩晶体结构更加有序,表面更加平整。功率提供沉积粒子能量促使晶粒的长大,但在平行方向受到其它晶粒和基片的抑制,最终导致晶粒柱状生长,形成尖峰,的∧ぁ使用际踔票缚啥灾票傅腎透明导电薄膜进行进一步的优化。而就有着直接影响的网栅的网孔大小进行研究,得出客ぶ票傅腎薄膜晶粒更加细小,表面更加平整。但际踅档土顺粱俾剩谑遣捎际踉诔9娲趴亟ι技术基础上加镀第二层票杆ú鉏薄
膜,这样可以提高∧と璈糙度和沉积速率的同时,又不影响其光电性能,从而节约了靶材。实验比较了、种组合和际跛票窱样品的薄膜形貌、晶粒大小、光电性能。结果表明:在总厚度保持,际醭粱穸任保组合双层薄膜粗糙度可降低到,同时其光学透射率达到%,电阻率也只有关键词:珽,磁控溅射,表面粗糙度,光电性能,表面形貌摘要×—·。
,琣,籥;,琣,,%,,.,’琯琫..,:·一,.琁..’琇
,,.甆珽琣篒,琈琣,甋琾..琲.,瓾,瑆甀,,瑀,%,,,.:×
目录摘要⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.目录⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯髀郏∧だ砺刍ひ詹问呕杓啤本文的研究工作和内容⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..∧さ闹票阜椒ā引言⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..国内外发展现状⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.磁控溅射原理⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯∧さ耐该鞯嫉缁怼∧さ某粱赡だ砺邸....................................................................⒎.
ú鉏薄膜的制备与研究⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..崧邸参考文献⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯致谢⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..个人简历与硕士期间发表论文⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..引言⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.实验条件⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..气体流量比对∧さ挠跋臁溅射压强对∧さ挠跋臁温度对∧さ挠跋臁功率对∧さ挠跋臁能量过滤磁控溅射技术樯堋网孔大小对∧さ挠跋臁粱穸榷訧薄膜粗糙度的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯结论⋯⋯⋯⋯⋯.⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯本文的主要结论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯