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刻蚀设备与工艺介绍.ppt


文档分类:通信/电子 | 页数:约56页 举报非法文档有奖
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一、安全二、电池工艺流程三、刻蚀设备与工艺介绍1精选课件一、安全安全!!!HF,HNO3,H2SO4,KOH,NaOH,HCl都是强腐蚀性的化学药品,其中HF腐蚀更是强烈,它们的固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道,所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套,遵守安全操作规程。一旦有化学试剂伤害了员工的身体,马上用纯水冲洗30分钟,送医院就医。当然这里首先说明安全是让大家引起足够的重视,不是危言耸听,保护好自己才能够更好的生产。当然,也没有必要因为危险就害怕,在做好安全防护的前提下,我们的生产安全是有保障的,这个已在各大型电池生产企业得到验证。2精选课件二、电池生产工艺流程硅片检验制绒磷扩散刻蚀PECVD丝网印刷烧结分档测试检验包装3精选课件硅片扩散后电池的边缘会有N型杂质与P型基底形成PN结,以及扩散的过程中在电池表面形成了一层很厚的磷硅玻璃层(PSG),因此需要周边刻蚀将边缘的PN结去除,而磷硅玻璃则通过HF酸短时间浸泡来去除。故扩散后要进行去周边及去PSG工序,原来这道工序是分等离子刻蚀和HF酸洗设备两步进行的,现在我们的设备可以一次进行,目前我们拥有两种刻蚀机台:RENAIn-oxside,SCHMID。三、刻蚀工艺的作用4精选课件三、刻蚀工艺的作用5精选课件三、RENA机台外观6精选课件三、SCHMID机台外观7精选课件三、SCHMIDSE机台外观8精选课件RENA刻蚀专辑9精选课件RENAInoxide大致构造除刻蚀槽外,其它化学槽和水槽都是喷淋结构。去PSG氢***酸槽是喷淋结构,而且片子浸入到溶液内部。上片刻蚀槽H2SO4/HNO3/HF水喷淋碱洗槽KOH水喷淋去PSG槽HF水喷淋下片吹干风刀10精选课件

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  • 时间2020-08-12