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新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告.docx
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新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告.docx
该【新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告 】是由【niuwk】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告本研究旨在探究新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性。该研究已进行了一段时间,现进行中期报告。一、研究背景功能光学薄膜在信息通信、光电子、医疗诊断、太阳能电池等领域有着广泛的应用。本研究针对一种新型功能光学薄膜进行磁控溅射工艺及物性研究,以期得到更好的薄膜质量和更高的薄膜性能。二、。经过实验优化,最佳的工艺参数为:M,磁场强度为400Gauss,靶材和基底距离为80mm,溅射时间为60min,基底温度为150℃。。测试结果表明,所制备的薄膜具有较好的透明度和光学性能,透射率达到了90%以上。同时,薄膜具有较好的硬度和耐腐蚀性能。三、研究成果本研究在新型功能光学薄膜的制备和物性方面取得了一定成果,初步得到了较好的工艺参数和良好的膜层性质,对后续研究提供了基础。四、,以提高其耐腐蚀性和耐磨性。,以提高其在光电器件中的应用范围。。改进方向:,提高薄膜的致密性。,如化学气相沉积(CVD)、热蒸发等,进一步优化薄膜透明度。,深入研究其光学、电学、热学等性能。
新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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2024-04-16
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