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GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告.docx
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GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告.docx
该【GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告 】是由【niuww】上传分享,文档一共【1】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告GaN基垂直结构LED是一种新颖的光电器件,其研究涉及许多关键工艺,目前处于中期阶段。以下是这方面的中期报告::高质量的GaN材料是制备高性能垂直结构LED的基础。目前采用的主要制备技术包括有机金属气相沉积(anicVaporPhaseEpitaxy,MOVPE)、分子束外延(Molecularbeamepitaxy,MBE)等。研究表明,MOVPE方法比MBE方法更适合生产大尺寸的GaN衬底。:垂直结构LED芯片的制备包括外延生长、制备p、n电极等步骤。关键技术包括注射金属有机气相沉积(hemicalVaporDeposition,MOCVD)、离子注入等。目前,采用MOCVD方法制备的GaN基垂直结构LED具有较高的性能,但其制备工艺还需要进一步优化。:包埋剂对GaN基垂直结构LED器件性能影响明显。目前采用的包埋剂主要有环氧树脂、聚氧化乙烯(Polyethyleneoxide,PEO)等,在制备过程中需要考虑包埋剂的稳定性、热膨胀系数等多种因素。:垂直结构LED的封装技术包括普通封装和芯片级封装两种。在普通封装中,需要考虑透镜的质量等因素。芯片级封装主要采用微加工技术,在封装过程中可以直接利用晶圆制成的光电器件。综上所述,GaN基垂直结构LED的研究涉及多种关键技术,包括GaN材料制备、外延生长、封装等多个方面,这些技术还需要进一步优化和完善,才能实现高性能、高亮度等要求。
GaN基垂直结构LED关键工艺研究的中期报告 来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.
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